マスクレスリソグラフィー ワークショップ
日時：2025年9月3日（水） 13:30‐17:10
場所：東北大学西澤潤一記念研究センター 2階 MEMSショールーム
参加費：無料
主催：東北大学、ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社
申込みフォーム： https://forms.gle/CF4vT8qURMc5jCL7A
問い合わせ先: 東北大学マイクロシステム融合研究開発センター 早川昌子
E-mail: masako.hayakawa.b1 ← @tohoku.ac.jpをつなげてください。
Tel. 022-229-4113
プログラム
13:30 Registration
13:45 Welcome and introduction to Tohoku University
（Kentaro Totsu, μSIC, Tohoku University）
14:00 Latest upgrades of the MLA 150 and DWL 66+ Laser Lithography Systems
（Sven Preuss , Product Manager DWL-Series, Heidelberg Instruments Mikrotechnik）
14:40 Overview of MLA 150 utilization at Tohoku University and evaluation of photoresist: a case study on SU-8 3005
（Yoko Furubayashi, μSIC, Tohoku University）
15:00 GenISys BEAMER application for laser direct writing
（Satoshi Shimizu, GenISys K.K.）
15:30 Coffee break
15:50 Reticle fabrication on DWL 2000 with BEAMER correction
（Masaaki Moriyama, μSIC, Tohoku University）
16:20 NanoFrazor, modular nanolithography system
（Simon Bonanni, Exploring nanofabrication with the NanoFrazor, Heidelberg Instruments Nano）
16:40 Introduction of Hands-on-access Fab, μSIC
（Kentaro Totsu, μSIC, Tohoku University）
17:00 Wrap up
17:10 End