2026年3月26日・27日、東北大学マイクロシステム融合研究開発センター（μSIC）にて、S-Hub（東北大学 半導体クリエイティブティハブ）の半導体実習（フォトリソグラフィ実習）が行われました。
本実習には、秋田大学や福島大学の大学院生を中心に10名が参加し、フォトリソグラフィの基礎を座学で学んだ後、クリーンルームにおいて実験を行いました。
実験では、フォトレジスト塗布の工程におけるOAPの有無、露光時間、露光後のPEBの有無などにより、現像後に残るフォトレジストの膜厚や形状等に与える影響を確認しました。顕微鏡観察や膜厚測定を通じてデータを取得し、感度曲線を作成することで、フォトリソグラフィ工程への理解を深めました。
※フォトリソグラフィ実習についての詳細はS-Hubにお問合せください。
【S-Hubについて】
S-Hub（東北大学 半導体クリエイティブティハブ）は、東北大学の半導体関連研究者が結集し、半導体の設計、製造、さらには材料、製造・検査装置、設計支援に渡る人材を一気通貫で育成する体制を構築し、半導体分野における世界最高水準の人材育成拠点を形成しており、ショート動画やeラーニング、実習プログラムを展開しています。
https://www.s-hub.tohoku.ac.jp/
（仙台市青葉区荒巻字青葉6-6-04 工学研究科総合研究棟 別館 2号室／TEL：022-795-5639）