本プログラムは以下の目的で今後4年間行われます。

微細化・高密度化した集積回路 における 経済性での行き詰まりを打破するため
　⇒「超並列電子線描画装置」を開発し、多品種少量LSIをマスクレスで実現する。
　⇒　多様な異種要素を一体化する「ヘテロ集積化」を可能にし、高付加価値化する。
　東北大と産総研の連携による、次世代産業の種になる開発プロジェクトで、東北大では20mm角のウェハで自由度を生かした初期試作、産総研では200mm(一部300mm)ウェハを用い産業につなげる量産試作プロセス開発を行います。
　⇒　「MEMS試作コインランドリー」で設備を持たなくても開発できるようにし、参入障壁を下げる。「MEMS試作コインランドリー」は東北大学西澤記念センター (旧　半導体研究振興会 研究所)　のスーパークリーンルームのパワートランジスタ用の製造ラインに平成21年度の補正予算でMEMS設備を導入し、技術は有するが設備を持たないユーザのために来てお使いいただけるよう、4/6インチのMEMSラインを整備しました。
プログラムホームページ： www.mu-sic.tohoku.ac.jp/saisentan/
問い合わせ先 : 東北大学産学連携本部　戸津健太郎
Tel. 217-6034, totsu ＠ rpip.tohoku.ac.jp
（＠を半角に変更し、前後のスペースを削除してください)
参加希望の企業はご連絡ください。

中心研究者　江刺正喜、共同提案者　前田龍太郎(産総研)
支援統括　蛸島武尚
(2010年— 2013年度)