装置・料金

主な装置

  • リソグラフィ(i線ステッパ、コンタクトアライナ、マスクレスアライナ、レーザ描画装置、電子線描画装置、コータデベロッパ、スピンコータ、ホットプレートなど)
  • 酸化拡散炉
  • イオン注入、熱処理
  • CVD(LP-CVD、PE-CVD、常圧熱CVD、MOCVD)、ALD、ゾルゲル成膜
  • スパッタ、蒸着、めっき
  • ドライエッチング(DRIE、ICP-RIE、CCP-RIE、CDE、VaporHF)
  • ウェットエッチング(Si等方性、Si異方性、金属、その他)
  • 接合、ダイサ、研磨、レーザ加工、サンドブラスト、3Dプリンター、ワイヤボンダ、インクジェット
  • ナノインプリント(UV、熱)
  • 各種測定、評価

装置一覧(文部科学省マテリアル先端リサーチインフラセンター 共用設備検索)

試作コインランドリパンフレット(令和5年度版)

Hands-on-access fab brochure 2023

装置リスト・料金表 

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装置予約状況確認ページ

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