主な装置
- リソグラフィ（i線ステッパ、コンタクトアライナ、マスクレスアライナ、レーザ描画装置、電子線描画装置、コータデベロッパ、スピンコータ、ホットプレートなど）
- 酸化拡散炉
- イオン注入、熱処理
- CVD（LP-CVD、PE-CVD、常圧熱CVD、MOCVD）、ALD、ゾルゲル成膜
- スパッタ、蒸着、めっき
- ドライエッチング（DRIE、ICP-RIE、CCP-RIE、CDE、VaporHF）
- ウェットエッチング（Si等方性、Si異方性、金属、その他）
- 接合、ダイサ、研磨、レーザ加工、サンドブラスト、3Dプリンター、ワイヤボンダ、インクジェット
- ナノインプリント（UV、熱）
- 各種測定、評価
装置一覧（文部科学省マテリアル先端リサーチインフラセンター 共用設備検索）
Hands-on-access fab brochure 2024