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お知らせ

<更新のお知らせ(2014/3/26)>
4月1日より試作コインランドリ使用料を改定いたします。新料金表(PDF)

<更新のお知らせ(2014/1/22)>
メニューにイベント情報を追加しました。今後イベント情報はこちらでご案内いたします。

<更新のお知らせ(2013/10/25)>
ナノテクノロジープラットフォーム 平成25年度MEMS実践セミナーのご案内を公開しました。
詳しくはこちらをご覧ください。

<受賞のお知らせ(2013/9/5)>
試作コインランドリの取組について、
第11回産学官連携功労者表彰経済産業大臣賞を受賞しました。
詳しくはこちら

<製品製作について(2013/6/12)>
一定の条件のもとで企業が製品の製作を行うことが可能となりました。これは、大学の研究開発の成果を製品として販売し社会で実証するとともに、生じた成果・課題を大学に教えていただき、教育研究をさらに活発にすることを目的としています。取扱い方法、申請書等のファイルはこちら

4インチ、6インチのMEMSを中心とした半導体試作開発ラインをご利用ください

<試作コインランドリとは>
MEMSを中心とした各種半導体試作開発に関わる4/6インチラインを企業などに開放し、実用化を支援しています。共用の設備で、利用者は必要な時に必要な装置を利用できます。技術は保有しているが、適当な試作開発設備が無くて困っている企業等が人材を派遣して自ら試作を行うことで、開発のコスト、リスクを軽減できると考えています。また、実際の経験を持つ技術者も育成できます。

<主な装置>
パターンジェネレータ(マスク作製)、露光機、酸化炉、拡散炉、LP-CVD(poly-Si,SiO2,SiN)、PE−CVD(SiO2,SiN)、スパッタ装置、蒸着装置、Si-DeepRIE装置、接合装置、ダイサ、その他(洗浄、フォトリソ、ウェットエッチング、評価に関する装置等) 詳しくはこちらをご覧ください。

<技術>
大学にこれまで蓄積されたノウハウにアクセス可能です。さらに、センターの職員が装置の操作方法を指導するなど、試作開発を最大限支援いたします。

<費用>
装置利用、技術支援について、利用時間に応じて課金いたします。料金表はこちらです。また、消耗品を使われた場合は相当額を承ります。

最新情報&更新情報

2014.1.22 メニューにイベントを追加しました。
2013.10.25 MEMS実践セミナーのご案内を公開しました。
2013.9.5 受賞のお知らせを更新しました
2013.8.6 ご紹介資料のページを更新しました
2013.6.12 製品製作について、お知らせ、ご利用方法、お申込み関係書類を更新しました2012.12.25 料金表を更新しました
2012.11.29 お知らせ、ご利用方法、お申込関係書類を更新しました。
2012.3.22 利用申請書を更新しました