Program
半導体加工技術を応用して微細パターンを形成するナノマイクロファブリケーションは、半導体のみならずセンサや微小光学部品などの幅広いデバイス作製に欠かせない技術です。その要であるリソグラフィ技術のほか、エッチング、成膜、インプリント、めっきなど、様々な技術が複合的に用いられますが、加工装置や計測装置の進歩により、その応用範囲が拡大しています。本シンポジウムでは、デバイス分野の研究開発を加速させることを目的として、最新の加工装置や計測装置で可能となるナノマイクロファブリケーションに関するショートプレゼンとハンズオンの実習を行います。
<日程> 2023年11月22日(水)
<主催> Nano-Micro Fabrication Symposium実行委員会
<共催> 東北大学マイクロシステム融合研究開発センター、MEMSパークコンソーシアム
<会場> 東北大学西澤潤一記念研究センター
<参加費> 無料
問い合わせ、ハンズオン実習申込先：NMFS実行委員会事務局 nmfs-office_at_mail.mu-sic.tohoku.ac.jp (_at_ →@) 022-229-4113
東北大学試作コインランドリで利用可能なツールを中心に、メーカー各社の協力により、ショートプレゼンとハンズオンの実習を行います。
最新の加工技術を知って体験できる場です。前日のフラウンホーファシンポジウムに引き続き、ぜひご参加ください。
<プログラム>
10:00-12:00 ショートプレゼン
エリオニクス、SIJテクノロジ、GenISys、住友精密工業、
ハイデルベルグ・インストルメンツ、TOWAレーザーフロント
12:00-13:00 昼食
13:00-17:00 ハンズオン実習
・サブフェムトインクジェットパターニングコース（SIJテクノロジ）
・EBリソグラフィコース（エリオニクス）
・グレイスケール、パターン補正を含む精密リソグラフィコース（GenISys、ミカサ、ハイデルベルグ・インストルメンツ）