半導体加工技術を応用して微細パターンを形成するナノマイクロファブリケーションは、半導体のみならずセンサや微小光学部品などの幅広いデバイス作製に欠かせない技術です。その要であるリソグラフィ技術のほか、エッチング、成膜、インプリント、めっきなど、様々な技術が複合的に用いられますが、加工装置や計測装置の進歩により、その応用範囲が拡大しています。本シンポジウムでは、デバイス分野の研究開発を加速させることを目的として、最新の加工装置や計測装置で可能となるナノマイクロファブリケーションに関する講演とハンズオンの実習を行います。
<日程> 2022年9月7日(水)~9日(金)
<主催> Nano-Micro Fabrication Symposium実行委員会
<共催> 東北大学マイクロシステム融合研究開発センター、MEMSパークコンソーシアム
<会場> 東北大学環境科学研究科本館/西澤潤一記念研究センター
<対象分野> ナノ/マイクロファブリケーションに関わる技術全般
<参加費> 無料
<プログラム>
9月7日 Seminar 環境科学研究科本館 講演：2階大講義室 技術展示：1階展示スペース
10:30 開会挨拶
10:40-11:30 基調講演
東北大学 国際放射光イノベーション・スマート研究センター 矢代 航 教授
「微細加工のX線・中性子イメージングへの応用」
11:30-12:30 休憩（近隣で昼食をとられる方へご案内 https://goo.gl/maps/gasRnzTM5R18eZBRA ）
12:30-17:00 講演、技術展示
12:30-12:50 アメテック株式会社
12:50-13:10 パーク・システムズ・ジャパン株式会社
13:10-13:30 SIJ Technology, Inc.
13:30-14:10 ～ネットワーキングブレーク（技術展示見学）～
14:10-14:30 ミカサ株式会社
14:30-14:50 株式会社ティ・ディ・シー
14:50-15:10 住友精密工業株式会社
15:10-15:30 GenlSys株式会社
15:30-15:50 ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社
16:00-16:50 展示会ブースツアー
16:50 閉会挨拶
技術展示：上記講演企業に加えて、日東電工株式会社、株式会社エリオニクス
9月8日 Hands-on Workshop -Basic- 西澤潤一記念研究センター
レーザ描画装置、EB描画装置、BEAMER、Zygo、膜厚測定機能付きスピンコータ、サブフェムトインクジェット、AFMなど、メーカーのご協力により8コースを用意しています。
10時～17時を2時間ごとに3つのセッションに分けていますので、最大3つのコースへの参加が可能です。
9月9日 Hands-on Workshop -Advanced- 西澤潤一記念研究センター
レーザ描画装置によるグレイスケール露光（DOE、マイクロレンズアレイ）、EB描画装置によるBEAMER補正パターンの露光